| 发明名称 | 热工艺装置、清洁其透光元件的方法及利用此装置的工艺 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种热工艺装置、清洁其透光元件的方法及利用此装置的工艺。该透光元件是位于此装置的反应腔室内，而反应腔室内至少包括晶片保持座，用以承载晶片，且配置于透光元件下方；以及能量源输出元件，配置于透光元件上方。本发明的方法例如是，进行表面处理步骤，清洁透光元件的表面。 | ||
| 申请公布号 | CN101436525A | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200710186061.1 | 申请日期 | 2007.11.13 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 王裕庸;吴兴隆;梁昭湖;林圣尧;施惠绅;简佑芳 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1. 一种清洁热工艺装置的透光元件的方法，该透光元件是位于该装置的反应腔室内，而该反应腔室内至少包括晶片保持座，用以承载晶片，且配置于该透光元件下方；以及能量源输出元件，配置于该透光元件上方，该方法包括：进行表面处理步骤，清洁该透光元件的表面。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||