| 发明名称 | 移动体系统、曝光装置及组件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。 | ||
| 申请公布号 | CN100490066C | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200580025934.X | 申请日期 | 2005.11.24 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 依田安史;柴崎祐一;荒井大 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G12B5/00(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1. 一种移动体系统，具有能在预定的一轴方向上分别独立移动的两个移动体，其特征在于，具备：制动器机构，能阻止所述两个移动体彼此较预定距离更接近；以及解除机构，设于所述两个移动体的至少一个，解除所述制动器机构的所述阻止作用，容许所述两个移动体较所述预定距离更接近。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||