| 发明名称 | 用于制造抗反射薄膜的化合物以及抗反射薄膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种用于制造抗反射薄膜的化合物以及抗反射薄膜的制造方法。化合物具有Si(OR)<sub>3</sub>-O-[Si(OR)<sub>2</sub>-O]<sub>n</sub>-Si(OR)<sub>3</sub>的结构，式中，R选自C<sub>3</sub>H<sub>9</sub>-、C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-或CH<sub>3</sub>-，并且n为1至15的整数。方法步骤包括：准备第一溶液，通过将上述化合物、氟代硅氧烷基单体、催化剂及溶剂的混合溶液进行溶胶-凝胶反应后而形成；将第一溶液涂布于表面；以及进行干燥工序，以形成抗反射薄膜。氟代硅氧烷基单体，具有CF<sub>3</sub>(CF<sub>2</sub>)<sub>m</sub>CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>-Si(OX)<sub>3</sub>的结构，式中，X选自C<sub>3</sub>H<sub>9</sub>-、C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-或CH<sub>3</sub>-，m为0至10的整数。本发明的薄膜具有较低的光反射率，并且具有较高的耐磨耗度和硬度的物理性质。 | ||
| 申请公布号 | CN101434614A | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200710170356.X | 申请日期 | 2007.11.15 |
| 申请人 | 达信科技股份有限公司 | 发明人 | 翁畅健;陈庆松 |
| 分类号 | C07F7/04(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | C07F7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 章社杲;李丙林 |
| 主权项 | 1. 一种用于制造抗反射薄膜的化合物，具有下式所示的结构：Si(OR)3-O-[Si(OR)2-O]n-Si(OR)3，其中，R选自C3H9-、C2H5-或CH3-；并且n为1至15的整数。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||