发明名称 | 形成多晶矽膜之方法 | ||
摘要 | 一种用于形成一掺杂有磷或硼之多晶矽膜之多晶矽膜形成方法包括在一反应容器内部加热置放于一真空氛围中的一目标基板,及朝该反应容器中供应一矽膜形成气体,一用于以磷或硼掺杂一膜之掺杂气体,及一含有用以延迟自多晶矽晶体形成柱状晶体且促进该多晶矽晶体之小型化之组份的粒度调整气体,藉此在该目标基板上沈积一掺杂有磷或硼之矽膜。 | ||
申请公布号 | TW200921766 | 申请公布日期 | 2009.05.16 |
申请号 | TW097138788 | 申请日期 | 2008.10.08 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 冈田充弘;宫原孝广;西村俊治 |
分类号 | H01L21/205(2006.01);H01L21/324(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |