用于形成含矽膜之组成物、含矽膜、形成含矽膜之基板及使用其之图型形成方法

摘要

本发明系揭示一种热硬化性用于形成含矽膜之组成物，其为含有，(A)以酸为触媒使水解性矽化合物水解缩合而得之含矽化合物，(B)式(1)或(2)所表示化合物，LaHbX(1)(L为Li、Na、K、Rb或Ce，X为羟基或有机酸基，a为1以上，b为0或1以上)MaHbA(2)(M为硫　、碘　或铵，A为上述X或非亲核性对向离子)(C)有机酸，(D)具有环状醚之取代基的醇，(E)有机溶剂。其效果为，使用由本发明之热硬化性用于形成含矽膜之组成物形成的含矽中间膜，可形成良好图型。又，可复制光阻图型，对基板进行高精度加工。