薄膜电晶体和显示装置的制造方法

摘要

本发明提供一种漏电流小且可靠性高的半导体装置的制造方法。在薄膜电晶体的制造方法中，藉由利用抗蚀掩模进行蚀刻来在薄膜电晶体中形成背通道部，藉由去掉该抗蚀掩模并蚀刻所述背通道部的一部分，去掉残存于背通道部上的蚀刻残渣等，由此可以降低产生的漏电流。当进一步蚀刻背通道部时，可以以无偏向的乾蚀刻来进行。