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发明名称
微影装置及器件制造方法
摘要
本发明揭示一种微影装置,其使用个别可控元件阵列,其中藉由该个别可控元件阵列图案化之辐射光束之强度的一部分转向一影像感应器以用于核对所产生之影像的品质。
申请公布号
TW200921083
申请公布日期
2009.05.16
申请号
TW097145243
申请日期
2005.10.05
申请人
ASML荷兰公司
发明人
卡斯 季格 托斯特;安诺 贾 贝雷克
分类号
G01N21/21(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01)
主分类号
G01N21/21(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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