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发明名称
可降低闸极至汲极电容的功率电晶体
摘要
可降低闸极至汲极电容的功率电晶体,包含有一背向金属层;一基底层,形成于该背向金属层上;一半导体层,形成于该基底层上;以及一正向金属层,设于该半导体层上。该半导体层包含有一第一沟槽式结构;一第二沟槽式结构;一p型基体层;第一n型源极区;第二n型源极区;以及一介电层。
申请公布号
TW200921912
申请公布日期
2009.05.16
申请号
TW097104757
申请日期
2008.02.12
申请人
茂达电子股份有限公司
发明人
林伟捷;叶人豪;林明璋
分类号
H01L29/78(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
许锺迪
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区笃行一路6号
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