发明名称 正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 一种正型光阻组成物,其为含有具有式(a1-0-2)所表示之结构单位(a1),经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性之树脂成分(A),与含有式(b1-12)所表示之化合物所形成之酸产生剂(B1),经由曝光产生酸之酸产生剂成分(B)。[式(a1-0-2)中,R为氢原子、低级烷基或卤化低级烷基;X#sP!2#eP!表示酸解离性溶解抑制基;Y#sP!2#eP!表示伸烷基或2价之脂肪族环式基]R#sP!2#eP!-O-Y#sP!1#eP!-SO#sB!3#eB!#sP!-#eP!A#sP!+#eP! …(b1-12)[式(b1-12)中,R#sP!2#eP!为1价之芳香族有机基;Y#sP!1#eP!为可被氟取代之碳数1至4之伸烷基;A#sP!+#eP!为阳离子]。[化1]#P 097127348P01.bmp
申请公布号 TW200921280 申请公布日期 2009.05.16
申请号 TW097127348 申请日期 2008.07.18
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 太宰尚宏;清水宏明;大下京子;平原孔明
分类号 G03F7/039(2006.01);G03F7/027(2006.01);C08L33/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本