发明名称 曝光设备及装置制造方法
摘要 本发明提供一种曝光设备,包括:投影光学系统,构成将光罩之图案投射于基板;以及位置侦测设备,构成侦测光罩之位置及基板之位置之至少一者。
申请公布号 TW200921759 申请公布日期 2009.05.16
申请号 TW097125587 申请日期 2008.07.07
申请人 佳能股份有限公司 发明人 前田普教
分类号 H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G01B11/00(2006.01);G01B9/02(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本