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发明名称
曝光设备及装置制造方法
摘要
本发明提供一种曝光设备,包括:投影光学系统,构成将光罩之图案投射于基板;以及位置侦测设备,构成侦测光罩之位置及基板之位置之至少一者。
申请公布号
TW200921759
申请公布日期
2009.05.16
申请号
TW097125587
申请日期
2008.07.07
申请人
佳能股份有限公司
发明人
前田普教
分类号
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G01B11/00(2006.01);G01B9/02(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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