发明名称 清洁热制程装置之透光元件的方法、热制程装置及利用此装置之制程
摘要 一种清洁热制程装置之透光元件的方法。前述透光元件是位于此装置之反应腔室内,而反应腔室内至少包括一晶片保持座,用以承载一晶片,且配置于透光元件下方;以及一能量源输出元件,配置于透光元件上方。本发明之方法例如是,进行一表面处理步骤,清洁透光元件的表面。
申请公布号 TW200921791 申请公布日期 2009.05.16
申请号 TW096141660 申请日期 2007.11.05
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 王裕庸;吴兴隆;梁昭湖;林圣尧;施惠绅;简佑芳
分类号 H01L21/324(2006.01) 主分类号 H01L21/324(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号