发明名称 | 清洁热制程装置之透光元件的方法、热制程装置及利用此装置之制程 | ||
摘要 | 一种清洁热制程装置之透光元件的方法。前述透光元件是位于此装置之反应腔室内,而反应腔室内至少包括一晶片保持座,用以承载一晶片,且配置于透光元件下方;以及一能量源输出元件,配置于透光元件上方。本发明之方法例如是,进行一表面处理步骤,清洁透光元件的表面。 | ||
申请公布号 | TW200921791 | 申请公布日期 | 2009.05.16 |
申请号 | TW096141660 | 申请日期 | 2007.11.05 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 王裕庸;吴兴隆;梁昭湖;林圣尧;施惠绅;简佑芳 |
分类号 | H01L21/324(2006.01) | 主分类号 | H01L21/324(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |