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经营范围
发明名称
曝光设备和装置制造方法
摘要
一被组构成将基板暴露至光线以使光罩之图案转印至该基板上的曝光设备,包括一光罩工作台,其被组构成安装该光罩;一结构,其被组构成支撑该光罩工作台;复数第一支撑构件,其被组构成支撑该结构;及第二支撑构件,其被组构成在一藉由连接该三个第一支撑构件所形成之区域的外侧支撑该结构。该第二支撑构件包括一被组构成减轻该结构之振动的单元。
申请公布号
TW200921760
申请公布日期
2009.05.16
申请号
TW097125739
申请日期
2008.07.08
申请人
佳能股份有限公司
发明人
森本吉浩
分类号
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);F16F15/02(2006.01);F16F15/023(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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