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发明名称
Polierzusammensetzung für einen Siliciumwafer und ein Polierverfahren für Siliciumwafer
摘要
申请公布号
DE112006003947(T5)
申请公布日期
2009.05.14
申请号
DE200611003947T
申请日期
2006.10.18
申请人
DUPONT AIRPRODUCTS NANOMATERIALS LLC
发明人
IWATA, NAOYUKI;NAGASHIMA, ISAO
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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