| 发明名称 |
Verfahren zur Verminderung von Staubteilchen auf einem Wafer während der Behandlung bei erhöhten Temperaturen auf einem elektrostatischen Halter |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69940658(D1) |
申请公布日期 |
2009.05.14 |
| 申请号 |
DE19996040658 |
申请日期 |
1999.06.17 |
| 申请人 |
NGK INSULATORS LTD. |
发明人 |
OHNO, MASASHI;NAGAO, MIE;KOBAYASHI, HIROMICHI |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/68;H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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