| 发明名称 | 具有低折射率及斥水性的覆膜 | ||
| 摘要 | 提供了在基材上显示1.28～1.41的折射率和90～115度的水接触角的，且与该基材的表面粘附形成的高硬度的覆膜。形成以特定比例含有Si(OR)<sub>4</sub>所示的硅化合物(A)、CF<sub>3</sub>(CF<sub>2</sub>)<sub>n</sub>CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>Si(OR<sup>1</sup>)<sub>3</sub>所示的硅化合物(B)、H<sub>2</sub>NCONH(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>Si(OR<sup>2</sup>)<sub>3</sub>所示的硅化合物(C)、R<sup>3</sup>CH<sub>2</sub>OH所示醇(D)以及草酸(E)的反应混合物，通过在水不存在下于40～180℃加热该反应混合物生成聚硅氧烷的溶液，在基材表面涂布含有该溶液的涂布液，通过在40～450℃使该涂膜热固化来在该基材表面粘附形成显示1.28～1.41的折射率和90～115度的水接触角的覆膜、该覆膜的形成方法及该涂布液的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100487071C | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
| 申请号 | CN200480028583.3 | 申请日期 | 2004.12.17 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 元山贤一;谷好浩 |
| 分类号 | C09D183/04(2006.01)I;C09D5/16(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 包于俊 |
| 主权项 | 1. 含有聚硅氧烷的涂布液的制造方法，其特征在于，形成含有式(1)Si(OR)4 (1)所示的硅化合物(A)、式(2)CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR1)3 (2)所示的硅化合物(B)、式(3)H2NCONH(CH2)mSi(OR2)3 (3)所示的硅化合物(C)、式(4)R3CH2OH (4)所示的醇(D)以及草酸(E)的反应混合物，使该反应混合物维持在由其中的硅原子换算的SiO2浓度在0.5～10重量％且不存在水的状态，同时在40～180℃加热直到该反应混合物中的硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)的总残存量达到5摩尔％以下，该反应混合物中相对于1摩尔硅化合物(A)，硅化合物(B)为0.05～0.43摩尔的比率，相对于1摩尔硅化合物(A)，硅化合物(C)为0.01～0.20摩尔的比率，相对于1摩尔在硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)中所含的全部烷氧基，醇(D)为0.5～100摩尔的比率，相对于1摩尔在硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)中所含的全部烷氧基，草酸(E)为0.2～2摩尔的比率，式中，R表示具有1～5个碳原子的烷基，R1表示具有1～5个碳原子的烷基，n表示0～12的整数，R2表示具有1～5个碳原子的烷基，m表示1～5的整数，R3表示氢原子或者具有1～12个碳原子的烷基，该烷基用选自具有1～3个碳原子的烷基、具有1～3个碳原子的羟烷基、具有2～6个碳原子的烷氧基烷基、具有2～6个碳原子的羟基烷氧基烷基以及具有3～6个碳原子的烷氧基烷氧基烷基的不同或相同的1个以上的取代基不取代或者取代。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||