发明名称 | 形成辅助通孔的OPC修正方法 | ||
摘要 | 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,通过在两层金属线之间的孤立通孔附近一定范围内寻找其他通孔、金属线,在附近一定范围没有通孔、金属线的孤立通孔附近形成辅助通孔,然后将该辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值,再将该辅助通孔向原始通孔方向扩展与原始通孔相接,并与其下层金属线重叠,最后在改进的金属线和通孔布图上进行常规的OPC修正。 | ||
申请公布号 | CN101430500A | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
申请号 | CN200710047858.3 | 申请日期 | 2007.11.06 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 洪齐元 |
分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 楼仙英 |
主权项 | 1. 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,包括如下步骤:a)沿第二层金属线检查每一个通孔,在其附近一定距离内是否有第一层金属线或通孔,如果没有,则沿着第二金属线的方向在原通孔附近设置一个辅助通孔;b)所述的辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值;c)向原始通孔方向扩展,使其与原始通孔边缘相接触;d)将增加值及扩展值与第一层金属线叠加,即形成最终的第一层金属线的布图;e)在以上改进的金属线和通孔布图上进行后续的常规OPC修正;f)对第二层和第三层金属线之间及更多层的通孔重复上述过程。 | ||
地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 |