发明名称 形成辅助通孔的OPC修正方法
摘要 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,通过在两层金属线之间的孤立通孔附近一定范围内寻找其他通孔、金属线,在附近一定范围没有通孔、金属线的孤立通孔附近形成辅助通孔,然后将该辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值,再将该辅助通孔向原始通孔方向扩展与原始通孔相接,并与其下层金属线重叠,最后在改进的金属线和通孔布图上进行常规的OPC修正。
申请公布号 CN101430500A 申请公布日期 2009.05.13
申请号 CN200710047858.3 申请日期 2007.11.06
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 洪齐元
分类号 G03F1/14(2006.01)I 主分类号 G03F1/14(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 楼仙英
主权项 1. 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,包括如下步骤:a)沿第二层金属线检查每一个通孔,在其附近一定距离内是否有第一层金属线或通孔,如果没有,则沿着第二金属线的方向在原通孔附近设置一个辅助通孔;b)所述的辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值;c)向原始通孔方向扩展,使其与原始通孔边缘相接触;d)将增加值及扩展值与第一层金属线叠加,即形成最终的第一层金属线的布图;e)在以上改进的金属线和通孔布图上进行后续的常规OPC修正;f)对第二层和第三层金属线之间及更多层的通孔重复上述过程。
地址 201203上海市浦东新区张江路18号