A METHOD AND A SYSTEM FOR REDUCING OVERLAY ERRORS WITHIN EXPOSURE FIELDS BY APC CONTROL STRATEGIES,申请号EP20070801880-传众专利搜索

发明名称	A METHOD AND A SYSTEM FOR REDUCING OVERLAY ERRORS WITHIN EXPOSURE FIELDS BY APC CONTROL STRATEGIES
摘要
申请公布号	EP2057506(A1)	申请公布日期	2009.05.13
申请号	EP20070801880	申请日期	2007.08.24
申请人	ADVANCED MICRO DEVICES, INC.	发明人	SELTMANN, ROLF;SCHULZ, BERND;HEMPEL, FRITJOF;SCHULZE, UWE
分类号	G03F7/20;G03F9/00	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
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