用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统

摘要

一种用于关于光刻工艺窗口的布图最优化的新型方法和系统，其促进光刻约束不被局部化，以便于提供通过工艺窗口印刷给定电路的能力，该工艺窗口超过使用常规的简化设计规则获得的工艺窗口。

主权项

1. 一种用于晶片上的集成电路布图以及制造集成电路布图的可叠加掩膜和掩膜级的光刻工艺窗口最优化的方法，其中用光辐射束照亮所述掩膜和掩膜级，所述方法包括：确定印刷电路特征边缘位置的预备组；确定在所述电路特征边缘的可允许位置上的连接约束组；将信赖区域的中心初始设置在所述电路特征边缘的预备位置处；计算在所述信赖区域内投影的图像强度的模型；基于计算模型调节在所述掩膜上提供的形状和照亮所述掩膜的所述光束的强度，以将在尽可能宽的曝光范围内满足所述连接约束组的图像投影在所述晶片上。