光刻设备和校准方法及器件制造方法

摘要

为校准具有可编程的图形形成装置的光刻设备，使用了诸如CCD的传感器、CMOS传感器或光电二极管阵列，该传感器具有检测器元件，该各检测器元件比与该可编程的图形形成装置的单个像素对应的点的尺寸更大。有选择地单独或成组激活各个像素。

主权项

1、一种光刻设备，包括：用于提供辐照投射射束的照射系统；用来赋予该投射射束以图形的单个可控元件阵列；用于支承基片的基片台；用于把该带图形的投射射束投射到该基片的目标部分上面的投射系统，一检测器，被定位于该带图形的投射射束内而不是在所述基片中，并具有多个检测器元件，每个检测器元件比投射到所述基片上并且与所述单个可控元件阵列的单个可控元件对应的点大；以及有孔件，该有孔件具有对应于所述多个检测器元件的多个孔。