| 发明名称 | 用于后CMP清洗工艺的含有防腐剂化合物的清洗溶液 | ||
| 摘要 | 本发明提供了后CMP清洗溶液，其包含至少一种含有有机酸化合物的清洗剂、至少一种能充分最小化或防止清洗溶液中微生物生长的防腐剂化合物和至少一种胺化合物。防腐剂化合物可以是另一种能保护清洗溶液中避免微生物生长的有机酸化合物。清洗溶液的pH优选是约2-7。 | ||
| 申请公布号 | CN101432412A | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
| 申请号 | CN200780010910.6 | 申请日期 | 2007.03.13 |
| 申请人 | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 | 发明人 | M·费希尔;A·米斯拉 |
| 分类号 | C11D3/00(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;C11D11/00(2006.01)I;C11D3/20(2006.01)I;C11D3/28(2006.01)I;C11D3/30(2006.01)I | 主分类号 | C11D3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1. 一种清洗溶液，含有：至少一种含有有机酸化合物的清洗剂；至少一种能充分最小化或防止清洗溶液中微生物生长的防腐剂化合物；和至少一种胺化合物。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||