| 发明名称 | 测定沉积膜厚度的方法及装置和形成材料层的方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明揭示一种沉积膜厚度的测定方法、材料层的形成方法、沉积膜厚度的测定装置及材料层的形成装置，主要课题是在成膜时正确检测所形成的材料层的厚度。本发明是在进行真空蒸镀等的成膜室(10)的预定部分设有窗口，从发光器(26)照射会透过衬底(14)及衬底(14)上所形成的膜的光，并且由受光器(28)检测透过光。此外，发光器及受光器亦可设在成膜室内。根据来自受光器(28)的资料，检测蒸镀时由同一材料形成在衬底(14)的一部分的膜厚监控部(52)的吸光强度(亦可为萤光强度)，并通过控制装置(30)控制坩埚(18)的移动速度及加热器(20)的加热状态等而调整沉积速度，藉此在衬底上形成目标厚度的材料层。 | ||
| 申请公布号 | CN100487948C | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
| 申请号 | CN200510051176.0 | 申请日期 | 2005.03.02 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 棚濑健司;石田弘毅 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈 泊;程 伟 |
| 主权项 | 1. 一种沉积膜厚度的测定方法，是衬底上的材料层的沉积膜厚度的测定方法，其特征为：在设于衬底或衬底附近的预定部位的沉积膜厚度监控部上及在所述衬底上沉积材料而形成材料层，在所述沉积膜厚度监控部照射预定的光，并检测透过此材料层的射出光，根据所检测的光的强度来测定衬底上所形成的材料层的沉积厚度。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||