发明名称 |
一种带有窗口片保护气路的反应腔 |
摘要 |
本实用新型适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域,提供了一种带有窗口片保护气路的反应腔,包括一安装基座、透明窗口片,所述安装基座上开设有倒锥形凹槽,所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口,所述窗口片固定于所述安装基座上表面用以封闭所述倒锥形凹槽,其特征在于:所述安装基座上还开设有窗口片保护气进气口和与所述窗口片保护气进气口贯通的窗口片保护气抽气口。与现有技术中的反应腔相比,本实用新型可以避免反应腔中产生的沉积物污染窗口片,而且不需要频繁更换窗口片。 |
申请公布号 |
CN201236209Y |
申请公布日期 |
2009.05.13 |
申请号 |
CN200820212008.4 |
申请日期 |
2008.09.24 |
申请人 |
清溢精密光电(深圳)有限公司 |
发明人 |
李跃松 |
分类号 |
C23C16/48(2006.01)I;B01J19/12(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/48(2006.01)I |
代理机构 |
深圳中一专利商标事务所 |
代理人 |
张全文 |
主权项 |
1、一种带有窗口片保护气路的反应腔,包括一安装基座、透明窗口片,所述安装基座上开设有倒锥形凹槽,所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口,所述窗口片固定于所述安装基座上表面用以封闭所述倒锥形凹槽,其特征在于:所述安装基座上还开设有窗口片保护气进气口和与所述窗口片保护气进气口贯通的窗口片保护气抽气口。 |
地址 |
518057广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号 |