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发明名称 METHOD FOR FABRICATING FINE PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20090044879(A) 申请公布日期 2009.05.07
申请号 KR20070111160 申请日期 2007.11.01
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KANG, HYE RAN
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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