发明名称 CONTINUOUS PLATING APPARATUS
摘要 <p>본 발명은 워크마다 설정 전류치를 바꾼 도금 처리를 할 수 있는 연속 도금 처리 장치를 제공한다. 또한, 동시각에 전체면 침지 상태로 도금조 내에서 반송 가능한 워크의 수가 N인 경우에 도금조 밖에 워크 반송 방향으로 연장되는 (N+1)개의 음극 중계 부재를 배치하고 또한 (N+1)개의 전원 유닛을 설치하여, 도금조 내에 대향 배치된 양극 전극에 각 전원 유닛의 각 양극 단자를 접속하고 또한 각 음극 단자를 해당 각 음극 중계 부재의 각각에 접속하여, 반송 중인 각 워크에 각 전원 유닛으로부터 해당 각 음극 중계 부재를 경유하여 급전 가능하게 형성하고, 전원 유닛을 워크가 전체면 침지 상태로 반송되는 기간 중에는 정전류 제어 가능하고, 부분 침지 상태로 반입되는 기간 중에는 전류 점증 제어 가능하고 반출되는 기간 중에는 전류 점감 제어 가능하게 형성되어 있는 연속 도금 처리 장치에 관한 것이다.</p>
申请公布号 KR20090045119(A) 申请公布日期 2009.05.07
申请号 KR20080107726 申请日期 2008.10.31
申请人 ALMEX PE, INC. 发明人 NODA TOMOHIRO;AKAMATSU KAZUTOSHI
分类号 C25D17/10;C25D17/02;C25D17/16 主分类号 C25D17/10
代理机构 代理人
主权项
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