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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20090044566(A) 申请公布日期 2009.05.07
申请号 KR20070110706 申请日期 2007.10.31
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 JANG, CHI HWAN
分类号 H01L21/20;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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