用于降低图案中的最小间距的方法

摘要

描述了用于降低图案的最小间距的方法。通过掩模使衬底上的光刻胶暴露于辐射下。所述掩模具有分隔一定距离的特征。生成具有第一辐射曝光度、第二辐射曝光度和第三辐射曝光度的光刻胶部分。采用第一化学试剂将具有第一辐射曝光度的光刻胶部分从衬底上选择性地去除。采用第二化学试剂将具有第二辐射曝光度的光刻胶部分从衬底上选择性地去除。保留具有第三辐射曝光度的光刻胶部分，从而在衬底上形成图案。所述图案的特征之间的距离至少比所述掩模的特征之间的距离小两倍。

主权项

1、一种方法，包括：采用掩模使形成于衬底上的光刻胶暴露于辐射下，以形成一个或多个第一光刻胶部分、一个或多个第二光刻胶部分以及一个或多个第三光刻胶部分；采用第一化学试剂从所述衬底去除所述一个或多个第一光刻胶部分；以及采用第二化学试剂从所述衬底去除所述一个或多个第二光刻胶部分。