| 发明名称 | 被处理体的处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明是一种被处理体的处理装置，其特征在于，包括：能够将内部抽成真空的处理容器、向上述处理容器内导入规定气体的气体导入单元、设置在上述处理容器内的支撑台、设置在上述支撑台上的用于支撑被处理体的环状支撑部、在上述支撑部的内侧的设置在上述支撑台的上面的多个热电转换元件、和将在被上述支撑部支撑的被处理体的下面、上述支撑台的上面和上述支撑部之间形成的元件收容空间内抽成真空的元件收容空间排气单元。 | ||
| 申请公布号 | CN100485874C | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200580011498.0 | 申请日期 | 2005.04.14 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 米田昌刚;河西繁;清水正裕 |
| 分类号 | H01L21/26(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1. 一种被处理体的处理装置，其特征在于，包括：能够将内部抽成真空的处理容器、向所述处理容器内导入规定气体的气体导入单元、设置在所述处理容器内的支撑台、设置在所述支撑台上用于支撑被处理体的环状支撑部、设置在所述支撑部内侧的所述支撑台上面的多个热电转换元件、和将在由所述支撑部支撑的被处理体的下面、所述支撑台的上面和所述支撑部之间形成的元件收容空间内抽成真空的元件收容空间排气单元。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||