发明名称 |
半导体元件,储存元件,储存单元与储存元件的操作方法 |
摘要 |
本发明的半导体元件包括一半导体基板。该半导体基板包括一第一扩散区,一第二扩散区,位于该第一扩散区和该第二扩散区之间的一沟道区,位于该第一扩散区和该沟道区之间的一第一反型区,及位于该第二扩散区和该沟道区之间的一第二反型区。上述半导体元件还包括一控制栅极、至少一次栅极,而控制栅极位于上述沟道区的上方,且次栅极位于上述第一反型区和第二反型区的上方,其中控制栅极不能延伸到此至少一次栅极的上方。 |
申请公布号 |
CN100485963C |
申请公布日期 |
2009.05.06 |
申请号 |
CN200610001563.8 |
申请日期 |
2006.01.24 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
吕函庭;吴旻达;赖二琨;施彦豪;何家骅;谢光宇 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿 宁;张华辉 |
主权项 |
1. 一种半导体元件,其特征在于包括:一半导体基板,包括:一第一扩散区,一第二扩散区,一沟道区,位于该第一扩散区和该第二扩散区之间,一第一反型区,位于该第一扩散区和该沟道区之间,及一第二反型区,位于该第二扩散区和该沟道区之间;一控制栅极,位于该沟道区的上方;至少一次栅极,位于该第一反型区和该第二反型区的上方,其中该控制栅极没有延伸到该次栅极的上方;一第一绝缘层,位于该沟道区和该第一反型区及该第二反型区上;一俘获层,位于该第一绝缘层上;一第二绝缘层,位于该俘获层上;以及该次栅极包括一第一次栅极与一第二次栅极,该第一次栅极位于该第一反型区上方,该第二次栅极位于该第二反型区上方,该第一次栅极、该第二次栅极和该控制栅极都位于该第二绝缘层上。 |
地址 |
中国台湾 |