| 发明名称 | 核壳型二氧化硅及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供球形度高、粒度分布窄的核壳型二氧化硅及可以容易地制造该核壳型二氧化硅的制造方法。所述核壳型二氧化硅的制造方法具备如下工序：使球形度在0.8以上、变异系数在0.2以下的实质上无孔质的二氧化硅核粒子在表面活性剂的存在下分散于由醇和水形成的分散介质来调制分散液的工序；向该分散液中加入二氧化硅原料，在pH8～13的条件下使二氧化硅原料反应，在二氧化硅核粒子的表面形成包含二氧化硅和表面活性剂的壳前体的工序；从该壳前体中除去表面活性剂，形成多孔质的壳的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101426725A | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200780013786.9 | 申请日期 | 2007.03.16 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 山田兼士;山田和彦 |
| 分类号 | C01B33/18(2006.01)I;G01N30/88(2006.01)I | 主分类号 | C01B33/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 刘多益 |
| 主权项 | 1. 核壳型二氧化硅的制造方法，其特征在于，具备如下工序：使球形度在0. 8以上、变异系数在0.2以下的实质上无孔质的二氧化硅核粒子在表面活性剂的存在下分散于由醇和水形成的分散介质来调制分散液的工序；向所述分散液中加入二氧化硅原料，在pH8～13的条件下使二氧化硅原料反应，在二氧化硅核粒子的表面形成包含二氧化硅和表面活性剂的壳前体的工序；从所述壳前体中除去表面活性剂，形成多孔质的壳的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||