| 发明名称 | 用于化学机械研磨的清洗垫 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种用于化学机械研磨的清洗垫，涉及化学机械研磨平坦化装备领域。本实用新型提供的清洗垫包括基底以及形成于基底工作表面上的沟槽。其中沟槽主要实现清洗时的导流作用，提高清洗垫的清洗效果。本实用新型所提供的清洗垫在应用于化学机械研磨过程中时，具有清洗效果好、使用寿命长的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN201231446Y | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200820151225.7 | 申请日期 | 2008.07.25 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 弓艳霞 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王 洁 |
| 主权项 | 1. 一种用于化学机械研磨的清洗垫，其特征在于包括基底以及形成于基底工作表面上的沟槽。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||