| 发明名称 | 蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种蚀刻方法，其采用含SF<sub>6</sub>的蚀刻气体体系，其中，在该SF<sub>6</sub>的蚀刻气体体系中还添加氧气。本发明的蚀刻方法可以在保证产能情况下大幅度降低源动力，从而实现大幅度降低天板沉积速度，减少栅极断线发生率。 | ||
| 申请公布号 | CN101425459A | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200710047579.7 | 申请日期 | 2007.10.30 |
| 申请人 | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 | 发明人 | 徐伟齐 |
| 分类号 | H01L21/311(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/311(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 薛 琦 |
| 主权项 | 1. 一种蚀刻方法，其采用含SF6的蚀刻气体体系，其特征在于：在该SF6的蚀刻气体体系中还添加氧气。 | ||
| 地址 | 201108上海市闵行区华宁路3388号 | ||