发明名称 真空层压装置
摘要 具有近似三角形横截面的抽气结构(12)设置在底板(11)的两个相对侧,并在抽气结构的内边缘提供了相对于底板固定距离的缝隙。在抽气结构(12)中,通过把抽气结构密封固定在底板(11)上,并把端板(13)密封固定在抽气结构(12)的末端,形成了一个抽气空间。在使用这样的真空层压装置(10)的层压处理中,通过抽气结构(12)的缝隙的抽气口,并通过形成在抽空气结构(12)中的抽气空间,对处理空间进行抽空,该处理空间是通过用覆盖薄片(14)覆盖底板(11)和抽气结构(12L)而形成。当在底板(11)的另外两个外侧区域设置引导器时,在真空层压处理中提高了覆盖薄片(14)的几何惯性矩,并因此克服了空气泄露。
申请公布号 CN100484758C 申请公布日期 2009.05.06
申请号 CN200410081033.X 申请日期 2004.09.30
申请人 富士电机系统株式会社 发明人 横山康弘
分类号 B32B37/10(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 B32B37/10(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1. 一种在层压材料上进行真空层压处理的装置,包括:用来在其上放置层压材料的底板(11);沿着底板(11)的两个相对侧设置在底板(11)上的管形抽气结构(12),每个抽气结构(12)具有三角形的横截面,其具有面向底板(11)的对应外围边缘的外侧面(12b)和面向相对的抽气结构(12)的内侧面(12c),外侧面(12b)气密地固定在底板(11)上,内侧面(12c)限定了距底板(11)恒定距离的缝隙作为抽气口;气密地固定到抽气结构(12)末端的端板(13);和覆盖薄片(14),覆盖层压材料和抽气结构(12)以形成一个处理空间来进行真空层压处理。
地址 日本东京都