发明名称 垂直磁记录介质的磁盘基板和用该基板的垂直磁记录介质
摘要 本发明的一个目的是提供用于垂直磁记录介质的基板,该基板表现出充分的生产能力,起到作为垂直磁记录介质的软磁性衬里层的作用,并且几乎不产生噪声。本发明的另一个目的是提供使用此基板的垂直磁记录介质。该磁盘基板(10)至少包括通过一种无电镀膜方法形成于非磁性基体(1)上的软磁性底层(2)。软磁性底层(2)的热膨胀系数大于非磁性盘状基体(1)的热膨胀系数。饱和磁致伸缩常数λs满足λs≥-1×10<sup>-5</sup>的关系。
申请公布号 CN100485785C 申请公布日期 2009.05.06
申请号 CN200510064386.3 申请日期 2005.04.15
申请人 富士电机电子技术株式会社 发明人 上住洋之;郑用一;贝沼研吾;樋口和人;矶亚纪良;栗原大
分类号 G11B5/66(2006.01)I;G11B5/667(2006.01)I;G11B5/73(2006.01)I;C23C18/50(2006.01)I 主分类号 G11B5/66(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1、一种用于垂直磁记录介质的磁盘基板,所述磁盘基板至少包括通过一种无电镀膜方法形成于一个非磁性盘状基体上的一个软磁性底层,其特征在于所述软磁性底层的热膨胀系数大于所述非磁性盘状基体的热膨胀系数,并且所述软磁性底层的饱和磁致伸缩常数λs满足λs≥-1×10-5的关系,其中所述软磁性底层表现出的Mrrδ/Mrcδ比例处于0.33-3.00范围内,其中Mrcδ是从通过沿着磁盘基板的周向施加磁场测得的磁化曲线中获得的厚度与剩余磁化的乘积,而Mrrδ是从通过沿着磁盘基板的径向施加磁场测得的磁化曲线中获得的厚度与剩余磁化的乘积。
地址 日本东京