发明名称 微图形之形成方法
摘要 一种提供于一处理目标基板之一主要表面上之抗蚀膜,其经图案化,以形成一抗蚀图案。在保留于该抗蚀图案之一空间部分中的抗蚀膜上实施一溶解化程序,以使得该抗蚀膜可容易地溶解于一用于移除其余抗蚀膜之液体中。接着,将该液体供应给其余抗蚀膜。
申请公布号 TW200919547 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097126153 申请日期 2008.07.10
申请人 东芝股份有限公司 发明人 伊藤信一
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本