应用于化学相沉积制程的有机金属前驱物

摘要

本发明系在提供一种应用于化学相沉积制程的有机金属前驱物，其具有下列化学式之结构：Cp(R)#sB!n#eB!M(CO)#sB!2#eB!(X) M是钌、铁或锇；R为碳原子1～10个的烷基；X为碳原子1～10个的烷基；n为1,2,3,4或5；该前驱物适用于化学相沉积制法，如原子层沉法(ALD)与化学气相沉积法(CVD)。