发明名称 光学薄膜及其制造方法
摘要 本发明提供一种光学薄膜及其制造方法。该光学薄膜系藉由将一种组成物制成薄膜再加以延伸而得,其中,该组成物含有如下述之化合物:在分子内具有2个以上选择自丙烯醯基及甲基丙烯醯基所构成群中之至少一种基且具有下式(A)所示之基的化合物。#P 097133866P01.bmp(式(A)中,B#sB!1#eB!及B#sB!2#eB!各自独立地表示羟基、碳数为1至6之烷基、碳数为1至6之烷氧基、或环氧丙氧基;X表示2价之烃基、硫基、磺醯基、醚键或单键,该烃基可含有-CO-O-;a#sB!1#eB!及a#sB!2#eB!各自独立地表示0至4之整数)。
申请公布号 TW200918933 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097133866 申请日期 2008.09.04
申请人 住友化学股份有限公司 发明人 市川幸司;宫崎胜旭
分类号 G02B1/04(2006.01);C08F20/36(2006.01);C08J5/18(2006.01);B29D7/01(2006.01);B29D11/00(2006.01);B29K33/04(2006.01) 主分类号 G02B1/04(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利