发明名称 结合电荷捕陷介电层与浮置闸极之非挥发性记忆体
摘要 本发明之非挥发性记忆单元储存至少50%之电荷于一电荷捕陷介电层,且储存至少20%之电荷于一浮置闸极。该浮置闸极之厚度至多为20奈米。
申请公布号 TW200919737 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097123017 申请日期 2008.06.20
申请人 茂德科技股份有限公司(新加坡子公司) 发明人 董忠;陈计良;陈兴华
分类号 H01L29/788(2006.01);H01L29/423(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/788(2006.01)
代理机构 代理人 王宗梅
主权项
地址 新加坡