| 摘要 |
本发明有关一种敏辐射线性组成物，其可形成不仅解像性优异、且LWR亦小、图型崩塌抗性优异且缺陷性亦优异之光阻膜；该敏辐射线性组成物含有聚合物(A)及敏辐射线性酸产生剂(B)，该聚合物(A)含有以下述通式(a-1)表示之重复单位(a-1)、以下述通式(a-2)表示之重复单位(a-2)以及具有酸解离性基之重复单位(a-3)，[化1]#P 097137306P01.bmp(通式(a-1)及(a-2)中，R#sP!1#eP!表示甲基等，R#sP!2#eP!表示碳数1~12之直链状或分支状烷基等，R#sP!3#eP!表示羟基等)。 |
