发明名称 以电镀及电镀组成物制造铑接触结构
摘要 本发明揭示一种铑接触结构,制造此铑接触结构的制程包含取得有一介电层于其上的一基材,此介电层具有将放置铑接触于其中的凹槽;沉积一种子层于此凹槽中及此介电层上;以及从含铑盐、酸及降应力剂的浴池中电镀以沉积铑;然后选择性回火此结构。
申请公布号 TW200918690 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097112965 申请日期 2008.04.10
申请人 万国商业机器公司 发明人 哈里克亚 戴林恩伊;邵晓燕
分类号 C25D5/00(2006.01);C22C28/00(2006.01) 主分类号 C25D5/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡玉玲
主权项
地址 美国