位置侦测设备的调整方法、曝光设备及装置制造方法

摘要

本发明提供用于位置侦测设备之调整方法，该位置侦测设备包含具有其位置可被改变的第一及第二光学构件之光学系统，且侦测物体的位置，该方法包含以下步骤：为第一光学构件于垂直至光学系统的光轴之方向的数个位置的每一者，计算代表经由光学系统进入光电转换装置之光的侦测信号的不对称性之值；用于该数个位置的每一者而指定该物体于光轴的方向的位置，该值在该位置系不敏感的；以及在指定于指定步骤之物体的位置，基于该值来调整第二光学构件于垂直至光轴的方向的位置。