发明名称 雷射直接成像装置及成像方法
摘要 本发明提供一种不论感光材料之种类为何均可高精度地确定相对于表面侧之背面侧之位置之雷射直接描绘装置及描绘方法。在使雷射光束5a偏向主扫描方向(X轴方向)并且使载置于平台12上之被描绘体10向副扫描方向(Y轴方向)移动,从而于被描绘体10之表面上描绘图案之雷射直描装置中,将中空销20以前端自平台12表面突出预定距离g之方式配置于平台12,且使被描绘体10吸附于平台12,藉此于被描绘体10之背面形成有底凹部(中空销20之前端压痕)。并且,在于背面描绘图案时,以凹部为基准进行描绘。
申请公布号 TW200918943 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097129486 申请日期 2008.08.04
申请人 日立比亚机械股份有限公司 发明人 内藤芳达;铃木光弘;加藤友嗣
分类号 G02B26/10(2006.01) 主分类号 G02B26/10(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本