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Horno de tratamiento térmico de bandas, chapas, planchas de material conductor de la corriente, particularmente metálicas, que pasan por el horno, constituido por un volumen cerrado mantenido bajo atmósfera gaseosa, el cual comprende una sección de calentamiento con al menos un inductor formado por un par de semi-inductores de flujo transversal o pseudo-transversal, caracterizado porque, en la sección de calentamiento (5), al menos dos paredes (9) del horno comprenden cada una una abertura (10) frente a cada uno de los dos semi-inductores (11a, 11b) y dos paneles (12) transparentes al flujo magnético cubren respectivamente las indicadas aberturas (10), comprendiendo estos paneles (12) en su periferia (14) una forma adaptada a la de la parte fija del horno que rodea cada abertura con el fin de constituir una barrera a la radiación térmica de la banda sin asegurar una estanqueidad al gas, y cada semiinductor (11a, 11b) se aloja en una cámara (8a, 8b) delimitada por paredes en saliente hacia el exterior del horno, aislándose estas cámaras de forma estanca de la atmósfera ambiente pero comunicándose con el volumen interior del horno.
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