曝光设备及装置制造方法

摘要

一种曝光设备，其透过投射光学系统在投射光学系统与基板间之间隔充满有液体之状态下使原片的图案曝光至基板上，该曝光设备包含有一液体供应单元，其供应液体至该间隔，一前侧除气单元，其设置成使得在该液体供应至该间隔前，使用氮气对该液体施行除气，一溶解气体量测单元，其设置在前侧除气单元之下游侧，以及一后侧除气单元，其设置在溶解气体量测单元之下游侧，其中，该前侧除气单元具有一溶解氧控制单元，该溶解氧控制单元将氮供应量控制为藉由该溶解气体量测单元所量测之预定值的溶氧量。