| 发明名称 | 用于真空处理装置的真空室 | ||
| 摘要 | 一种用于真空处理装置的真空室(1)，其具有能够被自由拆分为以下组件的结构：矩形室主体(2)，通过螺栓连接可拆卸而又牢固地连接到室主体(2)的两个侧表面上的三角形侧面机架(3a、3b)，连接到室主体(2)和具有开口的侧面机架(3a、3b)的各顶面上的顶板(5、8)，和连接到室主体(2)和具有开口的侧面机架(3a、3b)的各底面上的底板(7、9)。于是，能够根据使用者的需要等，容易地改变真空室的形状和大小，即使在真空室安装之后仍能够改变真空室的形状和大小。 | ||
| 申请公布号 | CN101419902A | 申请公布日期 | 2009.04.29 |
| 申请号 | CN200710139928.8 | 申请日期 | 2004.05.08 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 浜田安雄;咲本泰 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I;H01L21/283(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B01J3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 何腾云 |
| 主权项 | 1. 一种用于真空处理装置的真空室，其中真空室可以被自由地拆分为框架状的多边形室主体；具有开口、且牢固而又可拆卸地连接到具有开口的室主体的至少一侧的多边形侧面机架；连接到室主体和具有开口的侧面机架的各顶面上的各顶板；连接到室主体和具有开口的侧面机架的各底面上的各底板。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||