发明名称 | 光掩模的白缺陷修正方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种光掩模的白缺陷修正方法,即:取得无白缺陷的参考图案的透过图像(步骤S11),在修正加工开始(步骤S12)后,取得缺陷修正部分的透过图像(步骤S13)。之后,对透过图像的各像素的亮度作运算处理(步骤S14),从运算结果算出1个以上的判定值(步骤S15)。根据该判定值判断是否结束修正加工(步骤S16),在判断为结束修正加工之前,判断是否要变更加工条件(步骤S17),在根据需要变更了加工条件(步骤S18)后,重复步骤S13以后的步骤。在步骤S16中若判断为结束修正加工,则结束修正加工(步骤S19)。从而,即使对于复杂的修正加工条件,也能够以高精度且高效率地修正白缺陷。 | ||
申请公布号 | CN101419399A | 申请公布日期 | 2009.04.29 |
申请号 | CN200810133928.1 | 申请日期 | 2008.07.11 |
申请人 | 欧姆龙激光先进株式会社 | 发明人 | 久住庸辅 |
分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 何欣亭;刘宗杰 |
主权项 | 1. 一种用激光CVD法修正加工光掩模的白缺陷的光掩模白缺陷修正方法,其特征在于包括如下步骤:取得在与所述白缺陷相同位置上无白缺陷的参考图案的透过图像;在与所述参考图案的透过图像相同的条件下,取得作了所述修正加工的缺陷修正部分的透过图像;对所述参考图案和所述缺陷修正部分的透过图像作运算处理;根据从所述运算处理的结果算出的至少1个以上的判定值,判断是否结束所述修正加工;在判断为结束所述修正加工之前,至少重复从取得所述缺陷修正部分的透过图像的步骤起的步骤;在该重复步骤中,根据所述判定值判断是否变更所述修正加工的条件。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |