| 发明名称 | 基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明的基板处理装置把缓冲槽设置在纯水供给部的路径途中，在缓冲槽内设置有微泡发生器。在进行基板的处理时，在缓冲槽内生成大量的微泡，并把该微泡从缓冲槽供给到处理槽。因此，使用小型的微泡发生器就能够防止基板处理装置的大型化，同时可以把大量的微泡供给到基板的周围。 | ||
| 申请公布号 | CN100483621C | 申请公布日期 | 2009.04.29 |
| 申请号 | CN200710088784.8 | 申请日期 | 2007.03.22 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 樋口鲇美;新居健一郎 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B05B7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王玉双 |
| 主权项 | 1. 一种基板处理装置，其用处理液处理基板，其特征在于，设置有：存积处理液的处理槽，在所述处理槽内保持基板的保持部，向所述处理槽内供给处理液的处理液供给部，在所述处理液供给部的供给路径途中存积处理液的缓冲槽，以及在存积于所述缓冲槽内的处理液中产生微泡的微泡发生部；所述处理液供给部具有：经由所述缓冲槽供给处理液的第一送给路径和不经所述缓冲槽供给处理液的第二送给路径；并且所述处理液供给部使从所述第一送给路径送来的包含微泡的处理液和从所述第二送给路径送来的处理液汇合来进行供给。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||