发明名称 透明导电性薄膜、其制造方法以及具备其的触摸面板
摘要 本发明提供一种透明导电性薄膜,其具有笔输入耐久性及高温高湿可靠性优良的透明导电体层。在透明的薄膜基材的单面隔着至少一层底涂层而具有透明导电体层,其特征在于,所述透明导电体层的厚度d为15~35nm,平均表面粗糙度为0.37~1nm。
申请公布号 CN101417517A 申请公布日期 2009.04.29
申请号 CN200810170074.4 申请日期 2008.10.22
申请人 日东电工株式会社 发明人 梨木智刚;菅原英男
分类号 B32B7/02(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I;G06F3/045(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B05D7/00(2006.01)I;B05D3/00(2006.01)I 主分类号 B32B7/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1. 一种透明导电性薄膜,其在透明的薄膜基材的单面隔着一层以上的底涂层而具有透明导电体层,其特征在于,所述透明导电体层的厚度d为15~35nm,平均表面粗糙度为0.37~1nm。
地址 日本大阪府