发明名称 | 使用自对准相变材料层的相变存储器元件及其制造和使用方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种相变存储器元件及其形成方法。所述存储器元件包含支撑第一电极的衬底。绝缘材料元件位于所述第一电极上,且相变材料层形成于所述第一电极上,并且围绕所述绝缘材料元件,使得所述相变材料层具有与所述第一电极电连通的下表面。所述存储器元件还具有第二电极,其与所述相变材料层的上表面电连通。 | ||
申请公布号 | CN101416326A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
申请号 | CN200780012027.0 | 申请日期 | 2007.03.23 |
申请人 | 美光科技公司 | 发明人 | 刘军 |
分类号 | H01L45/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方 |
主权项 | 1. 一种存储器元件,其包括:衬底,其支撑第一电极;绝缘材料元件,其位于所述第一电极上;相变材料层,其位于所述第一电极上且围绕所述绝缘材料元件,所述相变材料具有与所述第一电极电连通的下表面;以及第二电极,其与所述相变材料层的上表面电连通。 | ||
地址 | 美国爱达荷州 |