| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 将一个或多个程控构图装置通过高度调整结构装配到装配板上，所述高度调整结构能使构图装置的有源表面的平面度得到控制。所述高度调整结构可以包括压电制动器或螺杆阵列。或者是，构图装置的背侧被打磨成光学平坦面，并通过晶体粘结而结合到刚性装配体的光学平坦表面上。 | ||
| 申请公布号 | CN100480864C | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200610071537.2 | 申请日期 | 2004.09.21 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 | 发明人 | A·J·布里克;D·J·P·A·弗兰肯;P·C·科彻斯佩格;K·Z·特鲁斯特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1. 一种使用无掩模光刻系统的器件制造方法，所述方法包括：照亮构图阵列组件(500)，所述构图阵列组件(500)具有多个构图阵列(104)，其中所述构图阵列组件限定出第一平面，并且所述每个构图阵列包括多个独立可控的像素(302)；将所述构图阵列组件(500)中的至少一个构图阵列(104)的位置从所述第一平面调整到第二方位：和用来自所述构图阵列组件的光曝光物体。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||