| 发明名称 | 一种等离子刻蚀残留物清洗液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子刻蚀残留物清洗液，其含有：氟化物、有机胺、溶剂和水。本发明的清洗液清洗能力强，可有效去除金属线(Metal)、通道(Via)和金属垫(Pad)晶圆上的等离子刻蚀残留物，而且对非金属材料(如SiO<sub>2</sub>、离子增强四乙氧基硅烷二氧化硅(PETEOS)、硅和低介质材料等)和部分金属材料(如Ti、Al和Cu)等有较小的腐蚀速率，可适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式和单片旋转式的清洗方式，具有较大操作窗口，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101412949A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200710047266.1 | 申请日期 | 2007.10.19 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 刘兵;彭洪修;于昊 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;C11D3/02(2006.01)N | 主分类号 | C11D7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1. 一种等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于含有：氟化物、有机胺、溶剂和水。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||